ఫోటోరేఫ్రాక్టివ్ ప్రభావం హోలోగ్రాఫిక్ ఆప్టికల్ అప్లికేషన్‌లకు ఆధారం, అయితే ఇది ఇతర ఆప్టికల్ అప్లికేషన్‌లకు కూడా ఇబ్బందులను తెస్తుంది, కాబట్టి లిథియం నియోబేట్ క్రిస్టల్ యొక్క ఫోటోరిఫ్రాక్టివ్ రెసిస్టెన్స్‌ను మెరుగుపరచడంపై చాలా శ్రద్ధ చూపబడింది, వీటిలో డోపింగ్ నియంత్రణ అత్యంత ముఖ్యమైన పద్ధతి.ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్ డోపింగ్‌కు విరుద్ధంగా, ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్ సెంటర్‌ను తగ్గించడానికి యాంటీ-ఫోటోరేఫ్రాక్టివ్ డోపింగ్ నాన్-వేరియబుల్ వాలెంట్‌తో మూలకాలను ఉపయోగిస్తుంది.1980లో, అధిక నిష్పత్తి Mg-డోప్డ్ LN క్రిస్టల్ యొక్క ఫోటోరేఫ్రాక్టివ్ రెసిస్టెన్స్ 2 ఆర్డర్‌ల కంటే ఎక్కువ పరిమాణంలో పెరుగుతుందని నివేదించబడింది, ఇది విస్తృతమైన దృష్టిని ఆకర్షించింది.1990లో, జింక్-డోప్డ్ LN మెగ్నీషియం-డోప్డ్ LN మాదిరిగానే అధిక ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్ నిరోధకతను కలిగి ఉందని పరిశోధకులు కనుగొన్నారు.చాలా సంవత్సరాల తరువాత, స్కాండియం-డోప్డ్ మరియు ఇండియమ్-డోప్డ్ LN కూడా ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్ నిరోధకతను కలిగి ఉన్నట్లు కనుగొనబడింది.

2000లో, జు మరియు ఇతరులు.ఎక్కువ అని కనుగొన్నారునిష్పత్తి Mg-డోప్డ్LNకనిపించే బ్యాండ్ ha లో అధిక ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్ నిరోధకత కలిగిన క్రిస్టల్sUV బ్యాండ్‌లో అద్భుతమైన ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్ పనితీరు.ఈ ఆవిష్కరణ అవగాహనను విచ్ఛిన్నం చేసిందిదియొక్క ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్ నిరోధకతLNక్రిస్టల్, మరియు అతినీలలోహిత బ్యాండ్‌లో వర్తించే ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్ పదార్థాల ఖాళీని కూడా నింపింది.తక్కువ తరంగదైర్ఘ్యం అంటే హోలోగ్రాఫిక్ గ్రేటింగ్ యొక్క పరిమాణం చిన్నదిగా మరియు సూక్ష్మంగా ఉంటుంది మరియు అతినీలలోహిత కాంతి ద్వారా డైనమిక్‌గా తుడిచివేయబడుతుంది మరియు గ్రేటింగ్‌లో వ్రాయబడుతుంది మరియు డైనమిక్ హోలోగ్రాఫిక్ ఆప్టిక్స్ యొక్క అనువర్తనాన్ని గ్రహించడానికి రెడ్ లైట్ మరియు గ్రీన్ లైట్ ద్వారా చదవబడుతుంది. .లామార్క్ మరియు ఇతరులు.ఉన్నతంగా స్వీకరించారునిష్పత్తి Mg-డోప్డ్LN నంకై విశ్వవిద్యాలయం UV ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్‌గా అందించిన క్రిస్టల్పదార్థంమరియు టూ-వేవ్ కపుల్డ్ లైట్ యాంప్లిఫికేషన్‌ని ఉపయోగించి ప్రోగ్రామబుల్ టూ-డైమెన్షనల్ లేజర్ మార్కింగ్‌ని గ్రహించారు.

ప్రారంభ దశలో, యాంటీ-ఫోటోఫ్రాక్టివ్ డోపింగ్ మూలకాలలో మెగ్నీషియం, జింక్, ఇండియం మరియు స్కాండియం వంటి డైవాలెంట్ మరియు ట్రివాలెంట్ మూలకాలు ఉన్నాయి.2009లో, కాంగ్ మరియు ఇతరులు.tetr ఉపయోగించి యాంటీ-ఫోటోఫ్రాక్టివ్ డోపింగ్‌ను అభివృద్ధి చేసిందిaహాఫ్నియం, జిర్కోనియం మరియు టిన్ వంటి వాలెంట్ మూలకాలు.డైవాలెంట్ మరియు ట్రివాలెంట్ డోప్డ్ ఎలిమెంట్స్‌తో పోల్చితే, అదే ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్ రెసిస్టెన్స్ సాధించినప్పుడు, టెట్రాడ్వాలెంట్ మూలకాల డోపింగ్ మొత్తం తక్కువగా ఉంటుంది, ఉదాహరణకు, 4.0 మోల్% హాఫ్నియం మరియు 6.0 మోల్% మెగ్నీషియం డోప్ చేయబడింది.LNస్ఫటికాలు కలిగి ఉంటాయిimఇలార్ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్ నిరోధకత,2.0 మోల్% జిర్కోనియం మరియు 6.5 mol% మెగ్నీషియం డోప్డ్LNస్ఫటికాలు కలిగి ఉంటాయిimఇలార్ఫోటో రిఫ్రాక్టివ్ నిరోధకత.అంతేకాకుండా, లిథియం నియోబేట్‌లోని హాఫ్నియం, జిర్కోనియం మరియు టిన్‌ల విభజన గుణకం 1కి దగ్గరగా ఉంటుంది, ఇది అధిక-నాణ్యత స్ఫటికాల తయారీకి మరింత అనుకూలంగా ఉంటుంది.

WISOPTIC [www.wisoptic.com] ద్వారా అభివృద్ధి చేయబడిన అధిక-నాణ్యత LN